"Предназначена для: - измерения поверхностного натяжения расплавов методом ""лежащей капли""; - изучения кинетики растекания жидких металлов по огнеуп...
Предназначена для вжигания металлизационных паст и других термических процессов в воздушной среде. В каждой тепловой зоне установлены микропроцессорны...
Предназначен для очистки жидких радиоактивных отходов от радионуклидов цезия-134, цезия-137 путем концентрирования их на ионоселективном сорбенте, обе...
Предназначена для выращивания методом Чохральского бездислокационных монокристаллов кремния полупроводниковой чистоты диаметром до 250 мм. Устройство...