Лабораторные установки быстрых термических процессов ANNEALSYS

Компания ANNEALSYS производит системы для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром от 2 до 8 дюймов с температурным диапазоном от комнатной до 1500 °C и скоростью нагрева до 250°C/сек. Системы быстрых термических процессов компании ANNEALSYS используют для нагрева инфракрасные лампы и могут быть использованы для большого числа применений таких как Кремний (Si), полупроводниковые соединения, фотовольтаика, MEMS и и других. Типичные процессы для систем - это послеимплантационный отжиг, отжиг контактов, кристализация, уплотнение. Быстрое термическое окисление и азотирование также является применимым. Установки быстрых термических процессов (RTP): Установка AS-Micro Система для использования пластин диаметром до 3 дюймов для использования в лабораториях. Версия с двумя камерами для перекрестного загрязнения (cross contamination). Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1250°C Загрузка: ручная Установка AS-One Система для быстрых термических процессов с холодными стенками в исполнении для пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм) Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи) Загрузка: ручная Установка AS-Master Универсальная система для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция). Применение: быстрый термический отжиг (RTA), быстрое термическое окисление (RTO) RTCVD послеимплантационный отжиг и др. Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи) Загрузка: ручная(опция: загрузка из кассеты в кассету)