Источники питания APEL-SB-5PDC для смещения подложки

Для получения покрытий с требуемыми характеристиками зачастую необходимо обеспечить дополнительную ионную бомбардировку поверхности растущей пленки. Для этого используется подача на подложку электрического смещения, ускоряющего ионы. Импульсное высокочастотное смещение позволяет расширить возможности управления процессом по сравнению с постоянным смещением. Борьба с образованием катодных пятен на поверхности обрабатываемой детали (подложки) также актуальна, как и для катода магнетронной распылительной системы. Для решения таких задач предназначены источники серии APEL-SB. Серия включает три типа униполярных импульсных источников питания, отличающихся максимальным выходным напряжением и выходной мощностью. Источник APEL-SB-650-5 предназначен для подачи электрического смещения на подложку в процессах магнетронного или дугового нанесения тонкопленочных покрытий. Источник питания традиционно комплектуется блоком поджига, что делает его эквивалентом источника APEL-M-5PDC и дает возможность использовать его для питания магнетронных распылительных систем.