Высокочистые соединения

Высокочистый тетрахлорид гафния для микроэлектроники Высокочистый тетрахлорид гафния используется для создания изолирующих диэлектрических слоев при производстве микрочипов нового поколения (стандарт 45 и 32 нм). Производимый тетрахлорид гафния имеет чистоту 99,999 по металлическим примесям, исключая цирконий, содержание циркония не более 200 ppm. Материал поставляется в виде порошка в стеклянных запаянных ампулах от 1 до 100г. Безводные иодиды редкоземельных металлов Безводные иодиды редкоземельных металлов высокой чистоты применяются в металлогалогенидных лампах - ртутных лампах высокого давления с добавками иодидов металлов и иодидов диспрозия, гольмия и тулия. Такие лампы имеют ряд существенных преимуществ перед обычными лампами накаливания - высокая световая отдача, близкий к дневному свету спектр оптического излучения, в 20 раз увеличенная яркость и т.д. Кроме того, применение РЗ иодидов открывает новые возможности создания специальных металлогалогенных ламп без использования токсичной ртути. Характеристика материалов: ультра сухие редкоземельные иодиды, содержащие не более 0,01% примесей РЗМ и 0,005% примесей остальных металлов. Содержание влаги и кислорода не более 30 ppm. Соединения в виде порошков или чешуек (flakes) поставляются в стеклянных запаянных ампулах. Работы по глубокой очистке галогенидов различных металлов Выполняется работы по получению высокочистых галогенидов различных металлов методом высокотемпературной ректификации. Безводные галогениды металлов используются для выращивания монокристаллов для лазерной техники и электроники, неорганических и органических синтезов. Технологическая схема включает подготовку исходного материала и оборудования, процесс ректификации и упаковку готового продукта по требованию заказчика.