Питатель вибрационный ПГ 1

"Компания "ВИБРОТЕХНИК" выпускает две модели вибрационных питателей с горизонтальным лотком равномерной подачи материала: ПГ 1 и ПГ 2. Данные питатели относятся к вибрационному оборудованию лабораторного класса, имеют небольшие габаритные размеры и вес. Они предназначены для равномерной подачи сыпучих материалов, в том числе в среде защитных газов, исключающих взаимодействие материала с окружающей атмосферой. Питатели могут применяться в различных отраслях промышленности, таких как: геологическая, металлургическая, химическая, пищевая, фармацевтическая, парфюмерная и многих других. Производительность питателя можно регулировать двумя способами: - изменением скорости движения материала по лотку путем регулировки амплитуды колебания лотка с панели управления; - изменением толщины слоя материала на лотке путем регулировки положения шиберной заслонки. Для установки питателя не требуется креплений или фундамента. Загрузочный бункер и лоток изготовлены из нержавеющей стали. При включении питателя переменный ток протекает по обмотке катушки вибровозбудителя; возникающее при этом переменное электромагнитное поле воздействует на якорь. В результате якорь совершает возвратно-поступательные движения, изгибая рессоры и возвращаясь в исходное положение. Колебания якоря передаются связанному с ним горизонтально расположенному лотку. Ось якоря расположена под углом к горизонту, что обеспечивает оптимальные условия для транспортировки материала по лотку. Засыпанный в бункер материал через выпускную щель попадает на лоток, перемещается по нему и выходит через трубу. Производительность питателя можно регулировать двумя способами: регулировкой силы тока, протекающего по катушке, при помощи ручки. Увеличение силы тока приводит к возрастанию силы воздействия электромагнитного поля на якорь, а якоря - на лоток. При неизменной жесткости рессор это влечет за собой возрастание амплитуды колебаний лотка. Соответственно, уменьшение тока ведет к уменьшению амплитуды колебаний лотка. В результате изменения силы тока, изменяется скорость движения материала по лотку при неизменной высоте слоя материала; изменением положения шиберной заслонки, регулируется высота слоя материала на лотке при постоянной скорости движения материала. Рекомендуется регулировать производительность питателя попеременно шибером и регулировкой силы тока, до достижения оптимального режима."