Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL

Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL

JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих(растровых) электронных микроскопов(РЭМ),просвечивающих электронных микроскопов(ПЭМ),анализаторов поверхности (ОЖЕ микроанализаторы, фотоэлектронные спектрометры, электронно-зондовые микроанализаторы EPMA), системы с фокусированным ионным пучком, масс-спектрометров, спектрометров ядерного магнитного резонанса (ЯМР) и систем электронно-лучевой литографии для производства полупроводниковых приборов.

Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL (Япония)

JBX-6300FS - это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств. Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8?) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

Для удобства и быстроты работы, в JBX-6300FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и нанолитографический (5-тилинзовый).

Основные технические характеристики:

Форма пучка круглое пятно Сканирование Векторное Ускоряющее напряжение 25кВ / 50кВ/100кВ Ток пучка 30пА - 20нА Минимальная ширина линии не более 8нм Минимальный диаметр пятна не более 2 нм Максимальный диаметр подложки 203,2 мм (8 дюймов) Погрешность сшивки рабочих областей не более 20нм на поле зрения 62,5 мкм Максимальный размер области экспозиции 2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ) 0,25мм * 0,25мм (5-линзовый режим, 25кВ)

Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:

Электронная пушка Ускоряющее наряжение Минимальный размер пучка Размер пластин Форма пучка Развертка JBX-3050MV LaB6 single crystal 50 кВ. 6 дюймов

(маски)

изменяемая Векторное сканирование JBX-5500FS ZrO/W
(типа Шотки) 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины 100 мм пятно Векторное сканирование JBX-6300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины до 200 мм. пятно Векторное сканирование JBX-9300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ 4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ) пластины до 300 мм. пятно Векторное сканирование