Система электронно-лучевой литографии JBX-5500FS производства JEOL
JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих(растровых) электронных микроскопов(РЭМ),просвечивающих электронных микроскопов(ПЭМ),анализаторов поверхности (ОЖЕ микроанализаторы, фотоэлектронные спектрометры, электронно-зондовые микроанализаторы EPMA), системы с фокусированным ионным пучком, масс-спектрометров, спектрометров ядерного магнитного резонанса (ЯМР) и систем электронно-лучевой литографии для производства полупроводниковых приборов.
Система электронно-лучевой литографии JBX-5500FS производства JEOL (Япония)
JBX-5500FS - компактная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для отработки технологий и малосерийного производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств. Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 101,6 мм (4?) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 12 МГц и динамическим диапазоном 18 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.
Для удобства и быстроты работы, в JBX-5500FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и сверхвысокоразрешающий (5-тилинзовый).
Основные технические характеристики:
Форма пучка круглое пятно Сканирование Векторное Ускоряющее напряжение 25кВ / 50кВ Ток пучка 30пА - 20нА Минимальная ширина линии не более 10нм Минимальный диаметр пятна не более 6 нм Максимальный диаметр подложки 102,6 мм (4 дюйма) Погрешность сшивки рабочих областей не более 40нм Максимальный размер области экспозиции 2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ) 0,2мм * 0,2мм (5-линзовый режим, 25кВ)Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:
Электронная пушка Ускоряющее наряжение Минимальный размер пучка Размер пластин Форма пучка Развертка JBX-3050MV LaB6 single crystal 50 кВ. 6 дюймов(маски)
изменяемая Векторное сканирование JBX-5500FS ZrO/W(типа Шотки) 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины 100 мм пятно Векторное сканирование JBX-6300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины до 200 мм. пятно Векторное сканирование JBX-9300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ 4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ) пластины до 300 мм. пятно Векторное сканирование
Прибор электронно-лучевой литографии Raith PIONEER
Прибор электронно-лучевой литографии Raith PIONEER Новая, компактная система электронно-лучевой литографии с термоэмиссионным катодом типа Шоттки. Система позволяет получать элементы с размерами 20 нмСистема электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL
Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих(растровых) электронных микроскопов(РЭМ),просвечивающих электрЛазерная система LPKF StencilLaser P 6060 для производства трафаретов LPKF StencilLaser P 6060
LPKF StencilLaser P 6060 - это сверхсовременная лазерная система для производства трафаретов для поверхностного монтажа. Она объединяет экономный по площади дизайн с простым обслуживанием, а также высСкиммер под пленку Xenozone с системой электронного контроля уровня воды (СК.30.0)
Производитель: Xenozone; Модель: СК.30.0; Тип и диаметр подключения: 2" ВР; Отделка бассейна: Пленка; Материал изготовления: Нерж. стальАртикул904961296ТипскиммерДиаметр подключения2½quot;Установка электронно-лучевой плавки/рафинирования тугоплавких металлов (ниобия Nb, тантала Ta)
Предназначены для сплавления скрапа в слиток и/или рафинирования тугоплавких металлов, таких как ниобий Nb и тантал Ta методом зонной плавки электронно-лучевой пушкой. Метод позволяет достигать высокоИнформация по Система электронно-лучевой литографии JBX-5500FS производства JEOL предоставлена компанией-поставщиком МИНАТЕХ, ООО. Для того, чтобы получить дополнительную информацию, узнать актуальную цену или условия постаки, нажмите ссылку «Отправить сообщение».