Системы безмасковой лазерной литографии Heidelberg

microPG 101 - настольная лабораторная система безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения

Лазерный генератор изображения Heidelberg microPG 101 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми теми же задачами, что выполняют более крупные модели генераторов. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Для обеспечения высокоточного перемещения лазерного луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.

Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.

В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, 50 мВт. В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена УФ лазерным источником (375 нм, 10 мВт).

Лазерный генератор изображений Heidelberg DWL 66FS предназначен для задач НИОКР, мелкой серии, опытное производство. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм. Размер шаблонов до 200 х 200 мм, пластин до 200 мм. Размер адресной сетки до 50 нм.

Высокопроизводительный лазерный генератор изображений Heidelberg DWL DWL 2000 предназначен для работы с фотошаблонами при больших объемах производства. Увеличена скорость письма по сравнению с DWL 66FS.Предназначена для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм. Размер шаблонов до 200 х 200 мм, пластин до 200 мм. Размер адресной сетки до 10 нм.