Система безмасковой лазерной литографии mPG 101 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

Система безмасковой лазерной литографии mPG 101 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

mPG 101 - настольная лабораторная система безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения

Лазерный генератор изображения Heidelberg mPG 101 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми теми же задачами, что выполняют более крупные модели генераторов. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Для обеспечения высокоточного перемещения лазерного луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.

Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.

В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, 120 мВт. В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена УФ диодным лазерным источником (375 нм, 70 мВт).

Установку можно оснастить сменными пишущими линзами с минимальным размером элемента 5 микрон, 2,5 микрона и 0,9 микрон. (по выбору).Пишущие головки сменные и могут меняться оператором при смене процесса.

Технические характеристики:

Сменные пишущие линзы (головы) на 0,9 мкм, 2,5 мкм и 5,0 мкм.

Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6 х 6 дюймов;

Размер поля экспонирования до 125 х 125 мм;

Толщина подложки до 6 мм;

Погрешность позиционирования подложки: 20 нм;

Точная фокусировка луча до 100 нм;

Габаритные размеры: 610 х 740 х 500 мм, вес 100 кг;

Размеры блока питания: 430 х 380 х 230 мм, вес 10 кг;

Стабильность поддержания температуры ±1° С;

Требуемый уровень влажности: 50% ± 10%;

Энергопотребление: 230 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 6 A.

Класс чистоты комнаты: ISO 6 (1000) или лучше.

Режимы формирования рисункаmPG 101 Режим работы I II III Размер адресной сетки, нм 40 100 200 Минимальный размер элемента, мкм 0,9 2,5 5,0 Скорость рисования, мм2/мин. 5,0 35 90 Неровность края (3?), нм 120 200 400 Равномерность (3?), нм 200 400 800 Точность совмещения (3?), нм 200 400 800 Область письма (экспонирования), мм 90 х 90 125 х 125 125 х 125 Источники излучения:

Диодный лазер — 405 нм, 120 мВт, 8000 часов, воздушное охлаждение (для тонких и стандартных резистов);

УФ-диодный лазер (по заказу) — 375 нм, 70 мВт, 7000 часов, воздушное охлаждение (для УФ-резистов).

Базовая комплектация:

Основной блок;

Рама с подавлением внешних вибраций;

Оптическая система;

Калибровочная система автофокусировки;

Система позиционирования подложки;

Электронный блок управления;

Персональный компьютер пользователя;

Комплектация по заказу:

Замена лазерного источника для работы в УФ-диапазоне;

Автоматическая система совмещения

Режим векторного экспонирования;

Базовый режим экспонирования в серой шкале

Антивибрационный стол