Система безмасковой литографии mPG 501 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

Система безмасковой литографии mPG 501 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

mPG 501 - настольная лабораторная установка высокоскоростной безмасковой литографии Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения

Настольная модель высокоскоростной безмасковой литографии с внушительными возможностями по доступной цене. Разработанная с расчетом на требования высокой производительности при доступной цене, установка mPG 501 является прекрасным решением для изготовления MEMS, интегральной оптики, микрофлюидики, лабораторных исследований в области создания чипов, производства фотошаблонов, опытного производства и НИОКР.

Генератор изображения Heidelberg microPG 501 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми теми же задачами, что выполняют более крупные модели генераторов и даже быстрее. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Система имеет возможности экспонировать (писать) структуры с размерами до 1 мкм или 2 мкм при скорости 50 мм2/мин или 100 мм2/мин соответственно, что эквивалентно времени экспонирования шаблона размером 2 х 2 дюйма менее чем за один час. Интегрированная эксперт-программа экспонирования (GUI) проводит оператора через всю процедуру включающую загрузку подложки, выбор дизайна и начала экспонирования. MicroPG 501 была сконструирована также для встраивания в самые маленькие лаборатории и R&D центры и требует только электрического питания и подачи сжатого воздуха для управления.

mPG 501 оборудована высоко мощным LED источником света, обеспечивающим исключительную надежность и очень длительный срок службы. Доступны длины волн 390 нм и 405 нм или 375 нм твердотельный UVLED источник для UV резистов (SU8).При использовании Другие длины волн также могут быть доступны по запросу. mPG 501 может экспонировать стандартный позитивныйи негативный фоторезисты, а также UV-резист такой как, например, SU8. Система может работать и применима для толстых резистов. Используя усовершенствованную технологию режима полутоновой шкалы экспонирования (Gray Scale Exposure) установка mPG 501 имеет возможность создавать трехмерные структуры (3D exposure), такие как дифракционные решетки или микро линзы.

Для обеспечения высокоточного перемещения луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.

Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.

Технические характеристики:

Минимальный топологический размер 1 мкм или 2 мкм (на выбор)

Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6 х 6 дюймов

Минимальный размер подложки 6 х 6 мм.

Размер поля экспонирования до 125 х 125 мм;

Адресная сетка до 50 нм при минимальном топологическом размере до 1 мкм,

Адресная сетка до 100 нм при минимальном топологическом размере до 2 мкм

Растровое экспонирование и 3D экспонирование (Gray Scale Exposure Mode) до 128 уровней

Скорость экспонирования для области - 50 мм2/мин и 100 мм2/мин;

Толщина подложки до 6 мм;

Погрешность позиционирования подложки: 20 нм;

Габаритные размеры: 630 х 770 х 530 мм, вес 120 кг;

Стабильность поддержания температуры ±1° С;

Требуемый уровень влажности: 50% ± 10%;

Энергопотребление: 230 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 6 A.

Класс чистоты комнаты: ISO 6 (1000) или лучше.

Режимы формирования рисункаmPG 501 Режим работы I II Размер адресной сетки, нм 50 100 Минимальный размер элемента с использованием LEDисточника (390 нм), мкм 1,0 2,0 Минимальный размер элемента с использованием UV LEDисточника (375 нм), мкм 1,5 3,0 Скорость рисования, мм2/мин. 50 100 Неровность края (3?), нм 100 150 Равномерность (3?), нм 200 300 Точность совмещения (3?), нм 200 400 Область письма (экспонирования), мм 125 х 125 125 х 125 Источники излучения:

Высоко мощный LED источник — 390 нм или 405 нм, 10 Вт, 10000 часов

По заказу другие длины волн.

Базовая комплектация:

Основной блок;

Рама с подавлением внешних вибраций;

Оптическая система;

Калибровочная система автофокусировки;

Растровое и 3D экспонирование (Gray Scale Exposure Mode) до 128 уровней

Система позиционирования подложки;

Персональный компьютер пользователя и ПО

Опции:

Пишущая голова - 2 мкм.,

Антивибрационный стол

UVLED источник, 375 нм, 10 Вт., 10000 часов

Оптический автофокус