Установка совмещения и экспонирования MDA-400M

Установка совмещения и экспонирования MDA-400M

Установка MDA-400Mшироко применяется для технологий изготовления MEMS, LED, полупроводников и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400M - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства. Обработка пластин до 150 мм.

Ручное совмещение и автоматическое экспонирование.

Результаты после проведения процессов (инспекция с СЭМ).pdf

Особенности:

Прецизионная точность совмещения 1 мкм

Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6'' (150мм)

Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)

Прецизионный столик для совмещения и микроскоп

Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования

Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках

Антивибрационный стол

Эргономичный дизайн для удобного использования

Низкая стоимость/высокое качество

Управление с компьютера

Мощность лампы УФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения. Размер подложки кусочки, пластины до 6 дюймов, размер подложек 6х6 дюйма Точность совмещения 1 микрон Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм) Размер маски до 7 х 7 дюймов УФ лампа 350 Вт. Оптическое зрение Микроскоп двойного поля (80x - 1000xувеличение), CCD камера Размер однородного пучка излучения 6,25 х 6,25 дюймов Однородность пучка < 5% Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 15-25 мВт/см2 Режим управления с ПК (PLC контроль) Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс. Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм) и по углу ? (± 5°) Выравнивание Компенсация ошибки клина Методы экспонирования Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором(регулируемое 1 мкм) Стол Антивибрационный стол Опции ИК опция обратного совмещения (IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модульUV-LED излучения (365 нм)