Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ

Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ

Бюджетная полностью с ручным управлением установки MDA-400LJ широко применяется для технологий изготовленияMEMS, оптоэлектроники и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства. Обработка пластин до 100 мм.

Ручное совмещение и ручное экспонирование.

Особенности:

Прецизионная точность совмещения 1 мкм

Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 4'' (100мм)

Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)

Прецизионный столик для совмещения и микроскоп

УФ излучения для экспонирования с длиной волны 365 нм.

Антивибрационный стол (опция)

Эргономичный дизайн для удобного использования

Низкая стоимость/высокое качество

Брошюра -MDA-400LJ в pdf.

Характеристики:

Лампы UV-LED источник света с контролем интенсивности и мощности излучения с длиной волны 365 нм. (для i-line резистов) Размер подложки кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма Точность совмещения 1 микрон Разрешение 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм) Размер маски до 5 х 5 дюймов Оптическое зрение Микроскоп двойного поля 1.4x~9x, двойной монитор Размер однородного пучка излучения 125 мм в диаметре Однородность пучка < 3% Интенсивность излучения при длине волны 365 нм Максимальная 10 мВт/см2 Режим управления Полностью ручной Регулируемое время экспонирования 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс. Совмещение подложек Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z, по осям х,у± 5 мм) и по углу ? (± 4°)

движение по оси z - 10 мм

Выравнивание Компенсация ошибки клина Методы экспонирования Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором(регулируемое 1 мкм) Стол Антивибрационный стол (опция)